近日，俄罗斯与白俄罗斯的合作项目取得了显著成果，成功研发出一台用于130纳米工艺芯片制作的光刻机试验样机。俄方的这一重要进展是在“微电子”论坛的全体会议上，由俄罗斯第一副总理丹尼斯·曼图罗夫亲自宣布的。根据发布的消息，早在几个月前，俄罗斯就已推出了350纳米光刻机设备，而如今迅速推进至130纳米样机，充分展示了该国在半导体设备技术领域的进步与创新。

光刻技术是芯片制造过程中不可或缺的重要环节，它的核心在于在半导体材料表面精准地刻画出图形，从而形成最终的电路。这一130纳米技术属于相对成熟的工艺节点，广泛应用于功率元件、传感器、汽车电子和工业控制等领域，尽管它并不符合当前最前沿的数纳米逻辑芯片工艺，但依然具备重要的市场价值。

随着样机的完成，相关的整机验收工作定于秋季开始，计划于2027年实现正式供货。工业贸易部部长安东·阿利哈诺夫向媒体表示，130纳米光刻机的研发已经接近尾声，国产准分子激光器的测试工作已圆满完成，迄今为止，除了俄罗斯，只有美国和日本拥有这样的激光器生产能力。整机的验收测试工作将于今年秋季展开，并预计在年底前完成。工贸部副部长瓦西里·什帕克于9月26日的采访中提到，已有部分验收环节开始实施，当前正在对工艺进行调试。物理样机将在今年内完成，并交由相关部门接收，明年将正式开启合同签署和生产供货的流程。 rb88.vip

根据报道，130纳米光刻机的研发是由泽列诺格勒纳米技术中心与白俄罗斯“平面”公司共同完成，该项目的研发费用约为57亿卢布，量产的计划定在2027年开始。会议上，工贸部机床与重型机械司司长瓦列里·皮文透露，过去两年内，该部已完成了超过100项微电子相关的研发工作，而今年还计划再完成100多项，130纳米光刻机正是其中之一。他同时指出，工贸部已经启动了10项新的项目，均与设备相关，且技术标准要求逐年提高。

在曼图罗夫看来，国产准分子激光器是130纳米光刻机的关键配件，光刻机的功能在于将电路图案投影到晶圆上，而光源的规格直接影响到线宽的精度。阿利哈诺夫也重申了准分子激光器在此类设备中的重要性，他表示俄罗斯已经完成了激光器的国产化测试。

值得注意的是，130纳米光刻机并非俄白合作的首个成果。什帕克透露，350纳米光刻机的生产合同已签署并进入制造阶段，其中首台量产型350纳米光刻机预计于2026年12月交付给客户，首个用户为俄罗斯国家技术集团“施瓦贝”控股的“马佩尔”，而第二台则将交付给“元件”集团旗下的“行业解决方案”公司。这台机器由泽列诺格勒纳米技术中心与“平面”公司联合开发，具备22×22毫米的曝光视场，能够处理直径达200毫米的晶圆，使用固体激光器替代传统的汞灯，生产效率在150毫米的晶圆上每小时约可处理63片，而在200毫米的晶圆上约为43片。其基础配置报价为3.92亿卢布（未含增值税），加上延长维保和五年质保的总报价为5.61亿卢布，相关数据表明，类似的进口设备价格往往高出40%至60%。在支付一半货款后，设备的生产周期约为18个月。 rb88.vip

此外，什帕克分享了当前市场的数据：全球微电子产品中，约有51%依然使用350纳米及更大工艺制作，而28纳米以下的技术占比仅为16%；预计到2035年，该比例仍然只会提升至17%左右。他认为，350纳米及以上的技术主要对应于功率电子、MEMS、传感器等成熟市场，依旧占据着产业的主体。

在下一步的规划中，阿利哈诺夫透露，90纳米分辨率扫描光刻机的技术任务书已基本完成，相关承担单位正在积极选定。同时，俄罗斯的电子束光刻技术也在有条不紊地推进之中。这项技术不仅用于光刻机的研发，同时也涉及生产芯片所需的光罩。泽列诺格勒一科技中心的建设工作接近尾声，预计将在此地组织光罩的生产。曼图罗夫也表示，该项目将阶段性掌握更先进的工艺节点，最终目标是达到28纳米。

材料与化学品的研发同样在推进中。曼图罗夫提到，过去三年，俄罗斯已经掌握了约60项关键材料的生产技术，剩余的大致数量将在2029年前实现市场投放。 rb88.vip